Vacuum มีบทบาทสำคัญอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์ กระบวนการผลิตชิปต้องทำงานในสภาวะสุญญากาศเพื่อลดการปนเปื้อนของอากาศและฝุ่นระดับไมครอนเทคนิคการเคลือบฟิล์มบาง เช่น Sputtering และ CVD ใช้สุญญากาศควบคุมความหนาและคุณสมบัติของชั้นวัสดุ การกัดลายวงจร (Etching) ในระดับนาโนต้องอาศัยห้องสุญญากาศและพลาสมาควบคุมอย่างแม่นยำ เครื่องมือวิเคราะห์อย่างกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนก็ต้องทำงานภายใต้สุญญากาศ ผู้ผลิตชิปรายใหญ่ เช่น TSMC และ Samsung Electronics ใช้ระบบสุญญากาศขั้นสูงในสายการผลิต ระดับความดันที่ควบคุมได้มีผลโดยตรงต่อคุณภาพและความเสถียรของวงจรไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โดยรวมแล้ว Vacuum เป็นหัวใจสำคัญที่ทำให้การผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์สมัยใหม่มีความแม่นยำและประสิทธิภาพสูง

องค์ประกอบหลักของระบบสุญญากาศในอุตสาหกรรมนี้ประกอบด้วย ห้องกระบวนการ (Process Chamber) ที่ออกแบบให้ปิดสนิทและควบคุมความสะอาดสูง ปั๊มสุญญากาศหลายระดับ เช่น ปั๊มขั้นต้นและปั๊มสุญญากาศสูง เพื่อให้ได้ค่าความดันตามต้องการ ระบบจ่ายแก๊สความบริสุทธิ์สูง (Gas Delivery System) สำหรับกระบวนการ เช่น CVD, PVD หรือ Etching วาล์วและท่อสุญญากาศที่มีซีลคุณภาพสูง รวมถึงเซนเซอร์และระบบควบคุมอัตโนมัติที่ตรวจวัดแรงดัน อัตราการไหล และอุณหภูมิแบบเรียลไทม์

หลักการทำงานเริ่มจากการลดความดันภายในห้องกระบวนการให้อยู่ในระดับที่กำหนด จากนั้นจึงเติมแก๊สหรือสร้างพลาสมาตามขั้นตอนการผลิต เช่น การเคลือบฟิล์มบาง การปลูกชั้นสารกึ่งตัวนำ หรือการกัดลายวงจร ความดันต่ำช่วยควบคุมทิศทางและพลังงานของอนุภาค ทำให้ได้ชั้นฟิล์มที่สม่ำเสมอและมีคุณสมบัติตามที่ออกแบบ เมื่อกระบวนการเสร็จสิ้น ระบบจะปรับแรงดันกลับสู่สภาวะปกติอย่างควบคุมได้